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產(chǎn)品詳情
遠(yuǎn)程等離子體源（Remote Plasma Source，RPS）
是一種用于產(chǎn)生等離子體的裝置，通常被用于在真空環(huán)境中進(jìn)行表面處理、材料改性、薄膜沉積等工藝，以及半導(dǎo)體刻蝕和薄膜設(shè)備的預(yù)處理反應(yīng)和清洗等。與傳統(tǒng)等離子體源不同的是，RPS通常不直接接觸要處理的表面，而是在一定距離之外產(chǎn)生等離子體，并將等離子體輸送到目標(biāo)表面，因此被稱為“遠(yuǎn)程等離子體源”。
應(yīng)用特征
采用新的固態(tài)微波源技術(shù)【非磁控管微波源】。具有很高的頻率、功率穩(wěn)定性，使用壽命長(zhǎng)。
自主開(kāi)發(fā)的微波匹配器，能實(shí)現(xiàn)在不同氣體條件下，快速進(jìn)行微波源與等離子體的阻抗匹配。
等離子體發(fā)生器材質(zhì)可選，適用于多種氣體。
體積小、集成度高、便于更換。低顆粒污染;
獨(dú)特的等離子反應(yīng)腔設(shè)計(jì)，適用于多種氣體的電離與阻抗匹配。
系統(tǒng)運(yùn)行時(shí)，氣體壓力適應(yīng)范圍寬。氣體電離率高、電離速度快。
工作頻率 | 2450MHz±500KHz | ||
微波功率范圍 | 100W-3000W | ||
功率穩(wěn)定度 | ≤±1% @500W-3000W | ||
適用氣體 | O2, N2, H2O, Ar, He, H2, 等 | ||
運(yùn)行氣壓范圍 | 0.06-20 Torr | ||
氣體流量范圍 | 0.1-10 slm | ||
電源輸入 | AC208V，45-60HZ, 35A 三相4線（固態(tài)功放） | ||
冷卻方式 | 循環(huán)水冷 | ||
控制接口 | DB25/DB89/觸摸屏 | ||
通信模式 | 默認(rèn)RS-232通信 | ||
等離子輸出口 | ISO-KF40 | ||
阻抗匹配方式 | 自動(dòng)匹配+手動(dòng)操作；HOLD模式和PRESET模式 | ||
阻抗匹配時(shí)間 | < 2秒 | ||
外形尺寸 | RPS系統(tǒng):544*474.91*622.2mm | ||
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